产品介绍

工业型等离子清洗机产品特点：

高稳定性能，可用于大规模连续生产；

独特的电极结构，确保等离子体的均匀性；

适合各种形状的产品，通用性高；

自主研发集成控制系统软件，操作便捷；

可按照客户要求定制腔体尺寸和层数，满足客户的使用要求；

等离子体是由Sir William Crookes在1879年发现的。而等离子体清洗机应用于工业, 源于20世纪初。并且随着等离子体物理研究的深入, 其应用越来越广, 目前已在众多高科技领域中, 居于关键技术的地位。等离子清洗技术对产业经济和人类文明影响最大的, 首推电子资讯工业, 尤其是半导体业与光电工业。

等离子体清洗采用气体作为清洗介质, 不存在使用液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子体清洗机工作时真空清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面, 短时间的清洗就可以使污染物被彻底地清洗掉, 同时污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可达到分子级。?

目前已广泛应用的物理化学清洗方法, 大致可分为两类:湿法清洗和干法清洗。干法清洗中发展较快、优势明显的是等离子体清洗, 等离子体清洗已逐步在半导体制造、微电子封装、精密机械等行业开始普遍应用。湿法清洗要大量使用酸碱等化学物质, 而且清洗后产生大量的废气、废液。当然湿法清洗目前在清洗工艺中还占据主导地位。但是从对环境的影响、原材料的消耗来看, 干法清洗要明显优于湿法清洗, 更应是未来清洗方法的发展方向。